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三星：2021年最早大规模生产3nm工艺_我的网站

A | 1月12日，三星在去年5月的三星铸造论坛上宣布了一项5/4/3nm工艺技术。    4月20日，兴城市手拉手爱心协会徐大堡分队的志愿者来到徐大堡、刘台子、东辛庄等6个乡镇，把价值近万元的大米、猪肉、鸡蛋等物资送给需要帮扶的困难群众。根据汤姆公司今天的硬件新闻，三星计划最早在2021年开始大规模生产3nm工艺芯片。同时，志愿者还在当地展开入户摸排，有效帮扶困难家庭。此外，三星还表示，将在今年下半年开始生产7nm的超视距芯片。                   　　《日报》全媒体记者 张宝程 摄。去年，三星还表示，它将在2020年使用4纳米砷化镓场效应晶体管（gate all around fet）工艺。然而，一些业内人士，包括加纳副总裁王国荣（Samuel Wang）对Gaafet芯片能否在2022年投产表示怀疑。

B | 尽管台积电和格罗福德全球铸造厂在EUV芯片开发方面并没有落后，但三星也有自己的优势。三星公司内部开发了自己的超视距掩模检测工具，但尚未开发出类似的商业工具。

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Published on:18:11:12